법무부, 첨단분야 인턴 비자 신설…외국인 재학생 기업 유치

8일부터 반도체·정보기술(IT) 분야 외국 대학생 국내 인턴 가능

법무부가 기업 경쟁력 강화를 위해 해외 우수 대학 외국인 재학생들의 국내 인턴 활동을 허용하기로 했다.

법무부는 오는 8일부터 외국인 첨단분야 인턴비자(D-10-3)를 신설한다고 5일 밝혔다. 비자를 받은 해외 인재는 반도체·정보기술(IT)·기술경영·나도·디지털전자·바이오·신소재 등 분야의 연구 시설을 갖춘 국내 상장기업과 과학기술 분야 정부 출연 연구기관 등에서 인턴 활동을 할 수 있게 된다.

법무부는 “그동안 졸업 전 우리나라에서 인턴을 하고자 하는 외국인 학생들의 수요와 국내 IT기업이 외국인 재학생들을 인턴으로 채용하고자 하는 수요가 있었지만 이를 허용하는 비자 제도가 마련되지 않아 인재 확보에 어려움이 있었다”고 설명했다.

기존에는 학위를 취득한 외국인이나 국내 대학의 외국인 유학생에 한해 국내 인턴 활동이 허용됐던 반면, 해외 대학 재학생의 경우에는 국내 기업 인턴 활동이 불가능했다.

비자 발급 대상은 미국 시사주간지 타임 선정 세계 200대 대학과 영국 글로벌 대학평가 기관 QS 기준 세계 순위 500위 이내 대학의 첨단기술분야 전공 재학생과 졸업 3년 이내 졸업생들이다.

첨단분야 인턴에 대한 체류지원 특례도 마련된다. 우선 1회 부여 가능한 체류기간의 경우 현행 6개월로 제한돼있는 구직비자를 1년으로 확대하고, 인턴 급여도 최저임금 이상 수령할 수 있도록 했다. 또 국내 대학으로 유학을 희망할 경우 제출해야 하는 학력 및 재정능력 입증 서류 등을 면제하고 표준입학허가서로만 심사하도록 바뀐다. 다만 국내 청년들의 일자리 침해를 방지하기 위해 채용 기업은 고용인원의 20% 수준 내에서만 외국인 인턴을 채용할 수 있다.

법무부는 “이번 비자 신설로 잠재적 우수인재에게 한국기업 근무와 한국 생활을 경험할 기회를 부여해 우수한 인적자원을 선점할 것”이라며 “미래 우수인재에게 한국의 기술·문화를 전파해 국내기업의 해외 진출 시에도 가교 역할을 할 수 있을 것으로 기대한다”고 밝혔다.

이태권 기자